プラズマCVD（plasma-enhanced chemical vapor deposition）は、プラズマを援用する方式の化学気相成長で、薄膜を形成する成膜法のひとつです。化学反応を活性化させるために高周波を印加して原料をプラズマ化させます。 成膜速度が速く、凹凸のある表面でも均一に成膜できるなど、化学気相成長の主な長所があります。さらにプラズマを援用することで、熱CVDと比較すると低い温度でも緻密な膜を形成することができます。

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プラズマCVD装置パンフレット