当センターが事務局を務める、「次世代ひかり産業技術研究会」の第30回研究会講演会が開催されます。
今回は東海大学情報理工学部教授の室谷裕志先生をお招きし、「光学薄膜の高品質化のための基礎」の題目でご講演をいただきます。
光学部品・機器、光学薄膜メーカーにおいて、不良解析と高品質化・高機能化やその関連技術について学びたいとの要望が多く寄せられております。本講演会は実践的な技術情報を得ることができる貴重な機会ですので、ぜひご参加ください。
《 次世代ひかり産業技術研究会 第30回研究会講演会 》
■日 時： 令和7年3月4日（火） 10:00～14:00（昼休みを設ける予定です）
■場 所： 秋田県産業技術センター 高度技術研究館
（〒010-1623 秋田市新屋町砂奴寄4-21 / Tel: 018-862-3414(代) ）
■主 催： 次世代ひかり産業技術研究会
秋田県産業技術センター
■方 法： 現地会場のみ
■参加費： 無料
■講演内容
・講 師： 東海大学情報理工学部 教授 室谷裕志 先生
・タイトル： 光学薄膜の高品質化のための基礎
・概 要： 光学薄膜に求められる特性としては、分光、外観、機械的強度、耐環境性等があ
る。どの特性も年々要求が厳しくなり、その対応も難しくなっている。特に外観不良の改善には各工程をまたいで総合的に考える必要があり、対策は難しい。本報告では外観不良の実例を中心に各種不良について報告する。また、プロジェクター、LiDAR等で最近注目されているレーザー損傷についても言及する。
■参加申込方法： 以下の様式で、メールでご返信ください。
研究会事務局（産業技術センター内： 内田勝、梁瀬智）： nxtopt[at]aitc.pref.akita.jp ※左記アドレスの[at]を@に変更して送信ください。
申込〆切：2月27日（木） 正午
１． 参加者：ご所属、部署、氏名
２． 連絡先電子メール
→ 複数参加希望の場合は各自でお申し込みください。
講演会の詳細はこちらのチラシもご覧ください。
