マスクレス露光装置を導入しました【ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社】

投稿日 : 2024年10月1日 | カテゴリー : 保有設備のご紹介

　これまで、フォトリソグラフィー技術による数um以下の微細構造を薄膜上に形成する方法では、フォトマスク（ガラス板）が必要でしたが、本装置ではコンピュータ上で設計したパターンを基板に直接描画・露光することができます。

　従来通りのフォトマスクの作製も可能です。

　設備の詳細は以下のパンフレットもご覧ください。