次世代ひかり産業技術研究会 講演会のご案内です。
◇次世代ひかり産業技術研究会 講演会 第28回研究会講演会
日 時： 令和6年2月1日（木） 13:00～15:30
場 所： 秋田県産業技術センター 高度技術研究館 （〒010-1623 秋田市新屋町砂奴寄4-21）
方 法： 対面方式（オンラインでは行いませんのでご注意ください）
参加費： 無料（どなたでもご参加いただけます）
主 催： 次世代ひかり産業技術研究会
講 演：【講 演１】「レーザー損傷と光学素子の高耐力化」
レーザー技術総合研究所 レーザー技術開発室 本越 伸二 氏
【講 演２】「多機能OCTを用いた機械特性および流動特性のマイクロ断層可視化について」
秋田県立大学 システム科学技術学部 古川 大介 氏
◇参加申込：
以下の様式で、メールにてご連絡ください。
次世代ひかり産業技術研究会事務局（産業技術センター内：内田勝、梁瀬智）
nxtopt@aitc.pref.akita.jp
申込〆切：1月29日（月）
記入様式
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１． 参加者：ご所属、部署、氏名
２． 連絡先電子メール
→ 複数参加希望の場合は各自でお申し込みください。
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資料はこちら
