名称等 | 照明光学系設計システム | 設備分類 | 解析技術 |
---|---|---|---|
製造元 | Zemax社 | 仕様・品質等 | OpticStudio Professional版 |
用途等 | ◇結像およびアフォーカル系に対するシーケンシャル光線追跡と、照明光の伝搬を扱うノンシーケンシャル光線追跡が行える。 |
||
詳細仕様 | ◇スネルの法則を基本原理とした光線追跡 |
使用料 | 220(円/時間) | 導入年度 | 平成27年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 2F:試験室(メカトロA)451 | 主担当者名 | 梁瀬 智 |
名称等 | 照明光学系設計システム | 設備分類 | 解析技術 |
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製造元 | Zemax社 | 仕様・品質等 | OpticStudio Professional版 |
用途等 | ◇結像およびアフォーカル系に対するシーケンシャル光線追跡と、照明光の伝搬を扱うノンシーケンシャル光線追跡が行える。 |
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詳細仕様 | ◇スネルの法則を基本原理とした光線追跡 |
使用料 | 220(円/時間) | 導入年度 | 平成27年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 2F:試験室(メカトロA)451 | 主担当者名 | 梁瀬 智 |