名称等 | 卓上プラズマエッチング装置 | 設備分類 | 薄膜技術 |
---|---|---|---|
製造元 | 三友製作所 | 仕様・品質等 | TP-50B |
用途等 | 内径1mm前後のノズル先端に発生させる「吸引プラズマ」を用いることで局所・低温・低残渣・高速のプラズマ加工が行える。 |
||
詳細仕様 | ・プラズマ・ノズル内径: 0.5 mm、4 mm |
使用料 | 470(円/時間) | 導入年度 | 平成27年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:化学実験室405 | 主担当者名 | 伊勢 和幸 |
名称等 | 卓上プラズマエッチング装置 | 設備分類 | 薄膜技術 |
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製造元 | 三友製作所 | 仕様・品質等 | TP-50B |
用途等 | 内径1mm前後のノズル先端に発生させる「吸引プラズマ」を用いることで局所・低温・低残渣・高速のプラズマ加工が行える。 |
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詳細仕様 | ・プラズマ・ノズル内径: 0.5 mm、4 mm |
使用料 | 470(円/時間) | 導入年度 | 平成27年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:化学実験室405 | 主担当者名 | 伊勢 和幸 |