名称等 | マスクレス露光装置 | 設備分類 | 薄膜技術 |
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製造元 | ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社 | 仕様・品質等 | μMLA |
用途等 | 本装置は、フォトリソグラフィにおけるパターン露光をフォトマスクの準備なしで直接データの描画を行う装置であり、またマスクアライナ装置で用いるフォトマスク上にパターン描画を行う装置でもある。そのパターン露光をフォトマスクなしに行うことができるので、これらの分野での製品開発における試作支援や工程検証の他、金型表面の微細加工や樹脂製品の表面処理など、県内企業に対して幅広い分野での研究開発、技術指導・相談に利用される。 | ||
詳細仕様 | ・設置可能基板サイズ範囲:5 mm角~152.4 mm角 ・設置可能基板厚み範囲:0.1 mm~12 mm ・最大描画エリア:100 mm角 ・最小描画サイズ(解像力):1 µm | 使用料 | 890(円/時間) | 導入年度 | R4年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR薄膜作製409 | 主担当者名 | 梁瀬 智 |