名称等マスクレス露光装置 設備分類薄膜技術
製造元ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社 仕様・品質等μMLA
用途等本装置は、フォトリソグラフィにおけるパターン露光をフォトマスクの準備なしで直接データの描画を行う装置であり、またマスクアライナ装置で用いるフォトマスク上にパターン描画を行う装置でもある。そのパターン露光をフォトマスクなしに行うことができるので、これらの分野での製品開発における試作支援や工程検証の他、金型表面の微細加工や樹脂製品の表面処理など、県内企業に対して幅広い分野での研究開発、技術指導・相談に利用される。
詳細仕様・設置可能基板サイズ範囲：5 mm角～152.4 mm角
・設置可能基板厚み範囲：0.1 mm～12 mm
・最大描画エリア：100 mm角
・最小描画サイズ（解像力）：1 µm
使用料890（円／時間） 導入年度R4年度
設置場所高度技術研究館　1F:ＣＲ薄膜作製409 主担当者名梁瀬 智