分光エリプソメータ

名称等	分光エリプソメータ	設備分類	計測技術（電磁光音など）
製造元	日本セミラボ株式会社	仕様・品質等	SE2000
用途等	光学デバイス作成において、光学薄膜の光学定数および膜厚を測定する装置。＜活用事例＞レンズや光学デバイスの反射防止膜やバンドパスフィルターなどの光学薄膜。
詳細仕様	・測定対象物質：金属、絶縁体、半導体・膜厚の測定範囲：0.1nm～30μm以上・測定誤差：膜厚：0.1nm、光学定数：0.001 ・測定波長範囲：193～1690nm ・測定波長点数：1100点以上・偏光解析方式：回転補償子型・測定時間：200ミリ秒・測定光の入射角：30～90度・自動ゴニオメータを搭載・偏光パラメータの測定ダイナミックレンジ：Ψ=0～90度、Δ=0～360度・入射ビームサイズ：70μm～3mm ○反射率測定モジュール詳細仕様＜直入射反射率＞・波長　380～950 nm ・入射角度　0° ・サンプルサイズ　φ200 × t10 mm以下・スポットサイズ　500 µm ・マッピング機能対応＜斜入射反射率＞・波長　250～1690 nm ・入射角度　40～75° ・サンプルサイズ　φ200 × t10 mm以下・スポットサイズ　70 µm、500 µm、3 mm
使用料	1,130（円／時間）	導入年度	平成28年度
設置場所	高度技術研究館　1F:精密測定室407	主担当者名	近藤祐治