名称等高分解能・光学スケール 設備分類メカトロニクス技術
製造元ソニーマニュファクチュアリングシステムズ(株) 仕様・品質等BH20
用途等

被測定物体から反射、散乱された光ビームの位置変化を光の回折と干渉を利用して、明暗の縞（しま）を作り出し、この明暗の変化をカウントして位置検出する
詳細仕様

①測定分解能：0.1nm以下
②測定範囲：10mm以上
③スケール精度：±100nm以下
④繰り返し精度：位置決め制御目標値±1nm以下
⑤光源：半導体レーザー
⑥検出原理：格子干渉式の反射型
⑦応答速度：100mm/sec以上
⑧スケール荷重：5g以下
使用料110（円／時間） 導入年度平成20年度
設置場所高度技術研究館　1F:試験室（メカトロB）413 主担当者名荒川　亮