名称等平面検出型光学スケール 設備分類メカトロニクス技術
製造元Sony Manufacturing Systems Corporation 仕様・品質等BZ
用途等

 半導体製造装置用に平面モータのX-Y平面内の高速で高精度な位置決め機構の位置フィードバックに用いられる反射光学型2次元スケール。

詳細仕様

40nm分解能平面検出型光学スケール

測定分解能:0.0625nm
測定範囲:0.5×0.5mm
光源:半導体レーザ

使用料110(円/時間) 導入年度平成18年度
設置場所高度技術研究館 1F:試験室(メカトロB)413 主担当者名荒川 亮