| 名称等 | 平面検出型光学スケール | 設備分類 | メカトロニクス技術 |
|---|---|---|---|
| 製造元 | Sony Manufacturing Systems Corporation | 仕様・品質等 | BZ |
| 用途等 | 半導体製造装置用に平面モータのX-Y平面内の高速で高精度な位置決め機構の位置フィードバックに用いられる反射光学型２次元スケール。 |
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| 詳細仕様 | 40nm分解能平面検出型光学スケール 測定分解能：0.0625nm |
使用料 | 110（円／時間） | 導入年度 | 平成18年度 |
| 設置場所 | 高度技術研究館 1F:試験室（メカトロB）413 | 主担当者名 | 荒川 亮 |
