名称等超高分解能光学スケール 設備分類メカトロニクス技術
製造元Sony Manufacturing Systems Corporation 仕様・品質等BH20
用途等

　半導体製造装置の位置決め機構などに用いる超精密ステージの研究開発に適用する位置フィードバック用の反射型光学スケール装置。
詳細仕様

31.25pm分解能光学スケール
測定分解能：0.03125nm
測定範囲：10mm
光源：半導体レーザ
使用料110（円／時間） 導入年度平成18年度
設置場所高度技術研究館　1F:試験室（メカトロB）413 主担当者名荒川　亮