名称等超高分解能光学スケール 設備分類メカトロニクス技術
製造元Sony Manufacturing Systems Corporation 仕様・品質等BH20
用途等

 半導体製造装置の位置決め機構などに用いる超精密ステージの研究開発に適用する位置フィードバック用の反射型光学スケール装置。

詳細仕様

31.25pm分解能光学スケール
測定分解能:0.03125nm
測定範囲:10mm
光源:半導体レーザ

使用料110(円/時間) 導入年度平成18年度
設置場所高度技術研究館 1F:試験室(メカトロB)413 主担当者名荒川 亮