名称等 | クリーンブースC(H17導入) | 設備分類 | その他 |
---|---|---|---|
製造元 | 日本エアテック | 仕様・品質等 | ACB-352C-特型 |
用途等 | 簡易型の清浄スペース |
||
詳細仕様 | クラス100、有効寸法 mm× mm× mm |
使用料 | 130(円/時間) | 導入年度 | 平成7年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:試験室(新材料B)412 | 主担当者名 | 木谷 貴則 |
担当部署 | 先端機能素子開発部 スピン・ナノデバイスGr | 副担当者名 |
名称等 | クリーンブースC(H17導入) | 設備分類 | その他 |
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製造元 | 日本エアテック | 仕様・品質等 | ACB-352C-特型 |
用途等 | 簡易型の清浄スペース |
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詳細仕様 | クラス100、有効寸法 mm× mm× mm |
使用料 | 130(円/時間) | 導入年度 | 平成7年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:試験室(新材料B)412 | 主担当者名 | 木谷 貴則 |
担当部署 | 先端機能素子開発部 スピン・ナノデバイスGr | 副担当者名 |