MENU
メニューを飛ばす
センターの概要
センターのミッション
組織図
沿革
アクセス
研究活動における不正行為等の防止
ご利用案内
技術相談
産業技術センターの見学について
受託研究・簡易受託研究
共同研究
研修制度
開放研究室
研究会
工業製品の放射線測定
設備・機器利用
技術研修
研究開発
保有特許・技術シーズ集
業務年報
イベントのご案内
YouTube
お問い合わせ
リンク集
設備データベース
HOME
»
設備データベース
»
イオンスパッタ装置
イオンスパッタ装置
投稿日 : 2016年1月12日
名称等
イオンスパッタ装置
設備分類
薄膜技術
製造元
日本電子
仕様・品質等
JUC-5000
用途等
電子顕微鏡での観察の際に試料表面に導電膜をコーティング
詳細仕様
マグネトロン方式、タ-ゲット:Pt,Au,Pt-Pd,C,Al
使用料
2,040(円/時間)
導入年度
平成4年度
設置場所
高度技術研究館 1F:走査型電子顕微鏡室401
主担当者名
岡田 紀子
←
真空乾燥器
高周波発振器
→