名称等MBE装置LL室拡張設備 設備分類薄膜技術
製造元株式会社エイコー 仕様・品質等
用途等

分子線エピタキシー(MBE)装置(株式会社エイコー製)の機能を拡張

詳細仕様

a) ロードロック(LL)室に超高真空排気設備とガス導入設備を新設
b) 試料仕込みと上記LL室への試料搬送が可能なトンネルチャンバーを新設

使用料1450(円/時間) 導入年度平成22年度
設置場所高度技術研究館 1F:CR薄膜作製409 主担当者名鈴木 淑男   
担当部署先端機能素子開発部 スピン・ナノデバイスGr 副担当者名