名称等 | MBE装置LL室拡張設備 | 設備分類 | 薄膜技術 |
---|---|---|---|
製造元 | 株式会社エイコー | 仕様・品質等 | |
用途等 | 分子線エピタキシー(MBE)装置(株式会社エイコー製)の機能を拡張 |
||
詳細仕様 | a) ロードロック(LL)室に超高真空排気設備とガス導入設備を新設 |
使用料 | 1450(円/時間) | 導入年度 | 平成22年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR薄膜作製409 | 主担当者名 | 鈴木 淑男 |
担当部署 | 先端機能素子開発部 スピン・ナノデバイスGr | 副担当者名 |
名称等 | MBE装置LL室拡張設備 | 設備分類 | 薄膜技術 |
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製造元 | 株式会社エイコー | 仕様・品質等 | |
用途等 | 分子線エピタキシー(MBE)装置(株式会社エイコー製)の機能を拡張 |
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詳細仕様 | a) ロードロック(LL)室に超高真空排気設備とガス導入設備を新設 |
使用料 | 1450(円/時間) | 導入年度 | 平成22年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR薄膜作製409 | 主担当者名 | 鈴木 淑男 |
担当部署 | 先端機能素子開発部 スピン・ナノデバイスGr | 副担当者名 |