名称等MBE装置LL室拡張設備 設備分類薄膜技術
製造元株式会社エイコー 仕様・品質等
用途等

分子線エピタキシー（MBE）装置（株式会社エイコー製）の機能を拡張
詳細仕様

a) ロードロック（LL）室に超高真空排気設備とガス導入設備を新設
b) 試料仕込みと上記LL室への試料搬送が可能なトンネルチャンバーを新設
使用料1450（円／時間） 導入年度平成22年度
設置場所高度技術研究館　1F:ＣＲ薄膜作製409 主担当者名鈴木 淑男　　　
担当部署先端機能素子開発部　スピン・ナノデバイスGr 副担当者名