名称等純水・超純水製造装置 設備分類その他
製造元日本ミリポア株式会社 仕様・品質等Milli-Q　Integral 10
用途等

成膜前の基板洗浄およびレジスト現像後の洗浄用（ＣＲ内）
詳細仕様

・純水の製造能力が10リットル/時以上
・純水の純度（水質）が比抵抗値で　3MΩ・ｃｍ　（at 25℃）以上
・純水のタンク容量が　50リットル以上
・超純水の純度（水質）が比抵抗値で　18MΩ・ｃｍ　（at 25℃）以上，或いは電気伝導率で　0.06μS/ｃｍ　（at 25℃）以下
・超純水の水質がTOC 0.05mg/リットル以下
使用料230（円／時間） 導入年度平成21年度
設置場所高度技術研究館　1F:ＣＲ微細加工411 主担当者名田口 香