名称等純水・超純水製造装置 設備分類その他
製造元日本ミリポア株式会社 仕様・品質等Milli-Q Integral 10
用途等

成膜前の基板洗浄およびレジスト現像後の洗浄用(CR内)

詳細仕様

・純水の製造能力が10リットル/時以上
・純水の純度(水質)が比抵抗値で 3MΩ・cm (at 25℃)以上
・純水のタンク容量が 50リットル以上
・超純水の純度(水質)が比抵抗値で 18MΩ・cm (at 25℃)以上,或いは電気伝導率で 0.06μS/cm (at 25℃)以下
・超純水の水質がTOC 0.05mg/リットル以下

使用料230(円/時間) 導入年度平成21年度
設置場所高度技術研究館 1F:CR微細加工411 主担当者名鈴木 淑男   
担当部署先端機能素子開発部 スピン・ナノデバイスGr 副担当者名