名称等スパッタリング用パルス電源 設備分類薄膜技術
製造元日本MKS 仕様・品質等RPG-50A-00
用途等　スパッタの際の電力を供給する電源として、特に酸化膜を高品位に作製できるようにするためのパルス電源。
詳細仕様パルス周波数　50-250 kHz、出力デューティ比　0-40%、最大出力　5kW、逆バイアス印加
使用料290（円／時間） 導入年度平成17年度
設置場所高度技術研究館　1F:ＣＲ薄膜作製409 主担当者名内田　勝　　　
担当部署電子光応用開発部　オプトエレクトロニクスGr 副担当者名