名称等 | スパッタリング用パルス電源 | 設備分類 | 薄膜技術 |
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製造元 | 日本MKS | 仕様・品質等 | RPG-50A-00 |
用途等 | スパッタの際の電力を供給する電源として、特に酸化膜を高品位に作製できるようにするためのパルス電源。 | ||
詳細仕様 | パルス周波数 50-250 kHz、出力デューティ比 0-40%、最大出力 5kW、逆バイアス印加 | 使用料 | 290(円/時間) | 導入年度 | 平成17年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR薄膜作製409 | 主担当者名 | 内田 勝 |
担当部署 | 電子光応用開発部 オプトエレクトロニクスGr | 副担当者名 |