名称等イオンビームガン 設備分類加工技術（表面処理改質）
製造元アリオス 仕様・品質等EMIS-212
用途等

　イオンビームを薄膜作製前の基板に照射し、薄膜の密着性向上などの表面活性化や、作製した薄膜に照射し酸化・窒化など薄膜の改質を行う装置。
詳細仕様

ECRイオンガン(2.45 GHz)、Arなどの不活性イオン種、N2, O2などの活性イオン種が使用可能、イオン電流密度　>1.5 mA/cm2、有効ビーム径　>φ50mm
使用料440（円／時間） 導入年度平成17年度
設置場所高度技術研究館　1F:ＣＲ薄膜作製409 主担当者名内田　勝