名称等MEMS対応型マスクアライナ 設備分類薄膜技術
製造元ズース･マイクロテック 仕様・品質等MA6BSA
用途等

紫外線レジストへの露光
詳細仕様

基板ｻｲｽﾞ:からφ4″、露光モード:ﾌﾟﾛｷｼﾐﾃｨ、ｺﾝﾀｸﾄ、等、光源：Hgﾗﾝﾌﾟ（g線）、解像度：1.0μm以下、裏面ｱﾗｲﾒﾝﾄ対応、ｱﾗｲﾒﾝﾄ精度：±1μm以下
使用料1,990（円／時間） 導入年度平成15年度
設置場所高度技術研究館　1F:ＣＲ微細加工411 主担当者名伊勢 和幸