名称等 | MEMS対応型マスクアライナ | 設備分類 | 薄膜技術 |
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製造元 | ズース・マイクロテック | 仕様・品質等 | MA6BSA |
用途等 | 紫外線レジストへの露光 |
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詳細仕様 | 基板サイズ:からφ4″、露光モード:プロキシミティ、コンタクト、等、光源:Hgランプ(g線)、解像度:1.0μm以下、裏面アライメント対応、アライメント精度:±1μm以下 |
使用料 | 1,990(円/時間) | 導入年度 | 平成15年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR微細加工411 | 主担当者名 | 伊勢 和幸 |
担当部署 | 先端機能素子開発部 機能性材料Gr | 副担当者名 |