| 名称等 | MEMS対応型マスクアライナ | 設備分類 | 薄膜技術 |
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| 製造元 | ズース･マイクロテック | 仕様・品質等 | MA6BSA |
| 用途等 | 紫外線レジストへの露光 |
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| 詳細仕様 | 基板ｻｲｽﾞ:からφ4″、露光モード:ﾌﾟﾛｷｼﾐﾃｨ、ｺﾝﾀｸﾄ、等、光源：Hgﾗﾝﾌﾟ（g線）、解像度：1.0μm以下、裏面ｱﾗｲﾒﾝﾄ対応、ｱﾗｲﾒﾝﾄ精度：±1μm以下 |
使用料 | 1,990（円／時間） | 導入年度 | 平成15年度 |
| 設置場所 | 高度技術研究館 1F:ＣＲ微細加工411 | 主担当者名 | 伊勢 和幸 |
| 担当部署 | 先端機能素子開発部 機能性材料Gr | 副担当者名 | |
