名称等MEMS対応型マスクアライナ 設備分類薄膜技術
製造元ズース・マイクロテック 仕様・品質等MA6BSA
用途等

紫外線レジストへの露光

詳細仕様

基板サイズ:からφ4″、露光モード:プロキシミティ、コンタクト、等、光源:Hgランプ(g線)、解像度:1.0μm以下、裏面アライメント対応、アライメント精度:±1μm以下

使用料1,990(円/時間) 導入年度平成15年度
設置場所高度技術研究館 1F:CR微細加工411 主担当者名伊勢 和幸   
担当部署先端機能素子開発部 機能性材料Gr 副担当者名