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超高真空多元スパッタ装置
超高真空多元スパッタ装置
投稿日 : 2016年1月12日
名称等
超高真空多元スパッタ装置
設備分類
薄膜技術
製造元
アルバック
仕様・品質等
MPS-4000-C6
用途等
詳細仕様
ロードロック室、酸化物製膜室(φ2インチカソード2基)、メタル製膜室(φ2インチカソード6基)、基板加熱各室600℃、磁場印加機構、到達圧力1.3×10-7Pa(メタル製膜室)
使用料
6,130(円/時間)
導入年度
平成15年度
設置場所
高度技術研究館 1F:CR薄膜作製410
主担当者名
柴田 寿人
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