名称等 | 超音波洗浄装置 | 設備分類 | その他 |
---|---|---|---|
製造元 | 本多電子 | 仕様・品質等 | W118 |
用途等 | 基板等の洗浄 |
||
詳細仕様 | 最大出力:1200W、発振周波数:28kHz、45kHz、100kHz |
使用料 | 450(円/時間) | 導入年度 | 平成7年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR微細加工411 | 主担当者名 | 内田 勝 |
担当部署 | 電子光応用開発部 オプトエレクトロニクスGr | 副担当者名 |
名称等 | 超音波洗浄装置 | 設備分類 | その他 |
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製造元 | 本多電子 | 仕様・品質等 | W118 |
用途等 | 基板等の洗浄 |
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詳細仕様 | 最大出力:1200W、発振周波数:28kHz、45kHz、100kHz |
使用料 | 450(円/時間) | 導入年度 | 平成7年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR微細加工411 | 主担当者名 | 内田 勝 |
担当部署 | 電子光応用開発部 オプトエレクトロニクスGr | 副担当者名 |