| 名称等 | スパッタ･蒸着複合装置 | 設備分類 | 薄膜技術 |
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| 製造元 | トッキ | 仕様・品質等 | SPS506 |
| 用途等 | スパッタリング方式による成膜 |
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| 詳細仕様 | ｶｿｰﾄﾞ:φ4ｲﾝﾁﾌﾟﾚｰﾅﾏｸﾞﾈﾄﾛﾝ方式、ｽﾊﾟｯﾀｱｯﾌﾟ6基(EB蒸発源:出力10Kw)、基板加熱:ｽﾊﾟｯﾀﾎﾙﾀﾞ 600℃,蒸着ﾎﾙﾀﾞ 300℃、排気時間:10-4Pa台まで10分以内、到達圧力1×10-5Pa |
使用料 | 3,980（円／時間） | 導入年度 | 平成7年度 |
| 設置場所 | 高度技術研究館 1F:ＣＲ薄膜作製409 | 主担当者名 | 山根 治起 |
