名称等バッチ式スパッタ装置 設備分類薄膜技術
製造元日電アネルバ 仕様・品質等SPF-332H
用途等

金属・酸化物の成膜

詳細仕様

基板:3基、カソード:3基、スパッタアップ方式
基板温度:室温(水冷)~150℃

使用料2040(円/時間) 導入年度平成6年度
設置場所高度技術研究館 1F:CR薄膜作製410 主担当者名伊勢 和幸