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バッチ式スパッタ装置
バッチ式スパッタ装置
投稿日 : 2016年1月12日
名称等
バッチ式スパッタ装置
設備分類
薄膜技術
製造元
日電アネルバ
仕様・品質等
SPF-332H
用途等
金属・酸化物の成膜
詳細仕様
基板:3基、カソード:3基、スパッタアップ方式
基板温度:室温(水冷)~150℃
使用料
2040(円/時間)
導入年度
平成6年度
設置場所
高度技術研究館 1F:CR薄膜作製410
主担当者名
伊勢 和幸
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