名称等バッチ式スパッタ装置 設備分類薄膜技術
製造元日電アネルバ 仕様・品質等SPF-332H
用途等

金属・酸化物の成膜
詳細仕様

基板:３基､ｶｿｰﾄﾞ:３基、ｽﾊﾟｯﾀｱｯﾌﾟ方式
基板温度：室温(水冷)～150℃
使用料2040（円／時間） 導入年度平成6年度
設置場所高度技術研究館　1F:ＣＲ薄膜作製410 主担当者名伊勢 和幸