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ディスクスパッタ装置
ディスクスパッタ装置
投稿日 : 2016年1月12日
名称等
ディスクスパッタ装置
設備分類
薄膜技術
製造元
日本真空技術
仕様・品質等
SSH-4S
用途等
ディスク媒体用薄膜試料の作製
詳細仕様
チャンバ構成:仕込取出、前処理、第1スパッタ、第2スパッタ室基板サイズ:φ1.8から3.5インチ取付基板枚数:8枚最高加熱温度:650°静止、回転成膜
使用料
12,570(円/時間)
導入年度
平成5年度
設置場所
高度技術研究館 1F:CR薄膜作製410
主担当者名
山根 治起
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