名称等 | ディスクスパッタ装置 | 設備分類 | 薄膜技術 |
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製造元 | 日本真空技術 | 仕様・品質等 | SSH-4S |
用途等 | ディスク媒体用薄膜試料の作製 |
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詳細仕様 | チャンバ構成:仕込取出、前処理、第1スパッタ、第2スパッタ室基板サイズ:φ1.8から3.5インチ取付基板枚数:8枚最高加熱温度:650°静止、回転成膜 |
使用料 | 12,570(円/時間) | 導入年度 | 平成5年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR薄膜作製410 | 主担当者名 | 山根 治起 |
担当部署 | 電子光応用開発部 オプトエレクトロニクスGr | 副担当者名 |