名称等ディスクスパッタ装置 設備分類薄膜技術
製造元日本真空技術 仕様・品質等SSH-4S
用途等

ディスク媒体用薄膜試料の作製

詳細仕様

チャンバ構成:仕込取出、前処理、第1スパッタ、第2スパッタ室基板サイズ:φ1.8から3.5インチ取付基板枚数:8枚最高加熱温度:650°静止、回転成膜

使用料12,570(円/時間) 導入年度平成5年度
設置場所高度技術研究館 1F:CR薄膜作製410 主担当者名山根 治起   
担当部署電子光応用開発部 オプトエレクトロニクスGr 副担当者名