| 名称等 | ディスクスパッタ装置 | 設備分類 | 薄膜技術 |
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| 製造元 | 日本真空技術 | 仕様・品質等 | SSH-4S |
| 用途等 | ﾃﾞｨｽｸ媒体用薄膜試料の作製 |
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| 詳細仕様 | ﾁｬﾝﾊﾞ構成:仕込取出､前処理､第1ｽﾊﾟｯﾀ､第2ｽﾊﾟｯﾀ室基板ｻｲｽﾞ:φ1.8から3.5ｲﾝﾁ取付基板枚数:8枚最高加熱温度:650°静止､回転成膜 |
使用料 | 12,570（円／時間） | 導入年度 | 平成5年度 |
| 設置場所 | 高度技術研究館 1F:ＣＲ薄膜作製410 | 主担当者名 | 山根 治起 |
| 担当部署 | 電子光応用開発部 オプトエレクトロニクスGr | 副担当者名 | |
