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イオンミリング装置
イオンミリング装置
投稿日 : 2016年1月12日
名称等
イオンミリング装置
設備分類
加工技術(表面処理改質)
製造元
コモンウェルス
仕様・品質等
ミラトロンⅣ
用途等
アルゴンイオンによる表面の微細加工
詳細仕様
ビーム径:φ4″、基板サイズ:最大φ3″、加速電圧:200から2,000V、最大ビーム電流:250mA
使用料
1,940(円/時間)
導入年度
平成4年度
設置場所
高度技術研究館 1F:CR薄膜作製410
主担当者名
田口 香
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