名称等 | 蛍光X線膜厚計 | 設備分類 | 評価技術(化学組成など) |
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製造元 | セイコー電子工業 | 仕様・品質等 | SEA-5120 |
用途等 | 多層膜の膜厚及び元素分析の非破壊測定 |
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詳細仕様 | 測定可能元素:AlからU、薄膜:最大5層、各層10成分の膜厚X線検出部:Si(Li)半導体検出器、測定可能膜厚:1nm |
使用料 | 1,410(円/時間) | 導入年度 | 平成6年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:X線解析室400 | 主担当者名 | 岡田 紀子 |
担当部署 | 技術イノベーション部 技術コーディネート班 | 副担当者名 |