名称等バッチ式多元スパッタ装置 設備分類薄膜技術
製造元トッキ 仕様・品質等SPM506
用途等

電子デハイス用薄膜作製全般。特に、磁性材料薄膜。

詳細仕様

プレーナマグネトロン方式φ4インチカソード6基(RFx2、DCx4)、スパッタアップ、基板6枚まで可、基板加熱:ターンテーブル 300℃,ブロックヒータ 500℃、到達圧力2×10-5Pa

使用料3820(円/時間) 導入年度平成7年度
設置場所高度技術研究館 1F:CR薄膜作製409 主担当者名山根 治起