名称等 | バッチ式多元スパッタ装置 | 設備分類 | 薄膜技術 |
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製造元 | トッキ | 仕様・品質等 | SPM506 |
用途等 | 電子デハイス用薄膜作製全般。特に、磁性材料薄膜。 |
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詳細仕様 | プレーナマグネトロン方式φ4インチカソード6基(RFx2、DCx4)、スパッタアップ、基板6枚まで可、基板加熱:ターンテーブル 300℃,ブロックヒータ 500℃、到達圧力2×10-5Pa |
使用料 | 3820(円/時間) | 導入年度 | 平成7年度 |
設置場所 | 高度技術研究館 1F:CR薄膜作製409 | 主担当者名 | 山根 治起 |